水素化反応、水素脆化
「希土類金属は水素と良く反応し、水素化物になり易い。金属ネオジムやネオジム合金も同様であり、ネオジム磁石は室温～200℃で水素化し易く、非常に脆くなる。」
水素で脆化し易い特徴を利用した焼結ネオジム磁石の製造工程が「粗粉砕(水素脆化処理)」である。粗粉砕工程では、機械式粉砕の前に“水素粉砕”、すなわち、合金に水素ガスを吸蔵させ、それに伴う体積膨張を利用して多数のクラックを生じさせる技術が利用される。これにより、合金が脆化して、後の中粉砕、微粉砕が無理なく行えるようになる。水素粉砕を行った場合は、希土類金属相は一旦水素化物になっているため、500～600℃まで減圧昇温して脱水素する。
また、ネオジムボンド磁石の粉末材料の製法の一つである「HDDR法」もネオジム合金が水素化し易い特徴を利用したものである。その微粉末から微結晶体を製造して、高性能ボンド磁石を得ようとする製法である。
一方、ネオジム合金は水素化し易いため、室温近傍での水素雰囲気での使用は避けるべきである。
